鍍鉻過程中，由于使用不溶性陽，陰電流效率又很低，致使大量氫氣和氧氣析出，當氣體逸出液面時，帶有大量的鉻酸，形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。
1、浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上，這些浮體可阻滯鉻霧的逸出，但零件出槽時，操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強，對加入的碎塊有浸蝕作用，使分解產物在鍍液中積累，也會影響鍍層質量。
2、加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑，能降低鍍液的表面張力，產生穩定的泡沫層，覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強氧化劑存在下不穩定，但氟碳型表面活性劑在上述介質中能穩定存在。據報道，已用作鉻霧抑制劑的有多種，其中好的是含有性基團的脂肪長鏈有機化合物，如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[-CF3(CF2)6CF2S03Na-]是典型的一種，每升鍍液中加入量為0．2～O．5g/L時，即可達到良好的效果。中國已試制出全氟烷基醚磺酸鉀[CF3(CF2)2n+10(CF2)S03K]，簡稱F一53鉻霧抑制劑，在鍍鉻液中的添加量為0．04～0．06g/L。使用時，先將F-53用水調成糊狀，加水稀釋，煮沸溶解靜止片刻，轉入加熱至50～60℃的鍍鉻槽中，不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。