在正常鍍鉻工藝條件下，鉻鍍層硬度為HRC55~HRC65和HV750~HV1200。電鍍鉻比由高溫冶金法得到的金屬鉻硬度高得多，硬的鉻鍍層可達到剛玉的硬度，比其他的現有電鍍層硬度都高。例如，它是鐵、鈷和鎳硬度的2倍左右。它的硬度比經過滲碳、滲氮、碳氮共滲、硬化處理的鋼以及經過熱處理的合金結構鋼的硬度都高。電鍍時的氫、外來離子的性質、內應力增加是鉻鍍層具有高硬度的主要因素。
材料抵抗硬物壓入表面的能力叫做硬度。在測定鍍層硬度時，常使用維氏硬度計，可根據鍍層厚度只要5~200gf的小壓荷使壓痕深度達到鍍層厚度的1/7~ 1/10,在鍍層斷面上測定硬度時，可以針對鍍層厚度選擇適當的壓荷，測度方法相同，測出的硬度誤差較小。加厚鉻鍍層如果大于100um時可采用洛氏硬度計，在非工作面上進行測定鉻鍍層硬度。這種方法測定時可以直接看出鉻鍍層的硬度，使用較方便。